دسترسی همگانی(OPAC) نام کتابخانه در اوپک

Fundamentals semiconductor Fabrication (بی تا) / May ، Gary S، نویسنده
نوع مدرک:برنامه‌ها و فایلهای کامپیوتری
سرشناسهMay ، Gary S، نویسنده
عنوان :Fundamentals semiconductor Fabrication
تکرار نام مولف :Simon M.SZE
ناشر:بیجا : Wiley
سال نشر :بی تا
صفحه شمار:158
مندرجات1. Introduction
2. Crystal Growth
3. Silicon Oxidation
4. Photolithography
5. Etching
6. Diffusion
7. Lon implatation
8. Film deposition
9. Process integration
10. manufacturing
11. Future trends and Challenges
Appendix A List of symbols
Aapendix B International system of units
Appendix C Unit prefixes
Apendix D Greek Alphabet
Appendix E Physical constants
Appendix F Properties of si and GaAs At 300 k
Appendix G Some properties of the error function
Appendix H Basic kinetic Theory of Gases
Appedix I Suprem commads
Appendix J Running prolith
Appendix K Percentage points of the t distribution
AppendixL Percentage points of the F distribution
لینک ثابت رکورد:../opac/index.php?lvl=record_display&id=526
زبان مدرک :English

 فهرست موجودی مدرک

شماره ثبتشماره بازیابینام عام موادمحل نگهداریبخشوضعیت ثبتوضعیت امانت
فاقد شماره ثبت

 نظرهای کاربران درباره این مدرک

تعداد نظرات کاربران :0 . برای افزودن نظر خود کلیک نمایید.

کاربران آنلاین :0